利用场发射显微镜测算碳化钨薄膜的逸出功

孙建平;张兆祥;侯士敏;张耿民;赵兴钰;刘惟敏;薛增泉

电子学报 ›› 2002, Vol. 30 ›› Issue (5) : 655-657.

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论文

利用场发射显微镜测算碳化钨薄膜的逸出功

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Work Function of Tungsten Carbide Thin Film Calculated Using Field Emission Microscopy

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2002, 30(5): 655-657
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2002, 30(5): 655-657
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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