%0 Journal Article %A 吴克军 %A 李则鹏 %A 张宁 %A 朱坤峰 %A 易波 %A 赵建明 %A 徐开凯 %T 标准CMOS工艺低压栅控硅发光器件设计与制备 %D 2021 %R 10.12263/DZXB.20200522 %J 电子学报 %P 1013-1018 %V 49 %N 5 %X 本文采用0.18μm标准CMOS工艺设计并制备了一种MOS结构的低压栅控硅基发光器件.该光源器件内部采用n+-p+-p+-n+-p+-p+-n+的叉指结构,在相邻两个p+有源区之间覆盖多晶硅栅作为第三端控制电极,用于在源/漏区边缘形成场诱导结,降低p+/n-well结的反向击穿电压,提高器件发光功率.测试结果表明,该光源器件可以发射420nm~780nm的黄色可见光,在3V的正向栅压下,p+/n-well发光二极管的反向击穿电压下降到3V以下,光输出功率提高至2倍以上.本文设计的光源器件工作电压较低,并且与CMOS工艺完全兼容,可以与其他CMOS电路共用电源并且实现单片集成,在硅基光电子集成领域具有一定的应用价值. %U https://www.ejournal.org.cn/CN/10.12263/DZXB.20200522