VHF-PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究

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VHF-PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究

论文 | 更新时间：2025-07-16

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- VHF-PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究
- Structural Study of Microcrystalline Silicon Films Fabricated by VHF-PECVD at Different Substrate Temperatures
- 张晓丹，赵颖，高艳涛，朱锋，魏长春，孙建，耿新华，熊绍珍
- 电子学报 2005年33卷第5期页码：920-922
- 作者机构：
  1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071
  2. 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071
  3. 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071
- 作者简介：
- 基金信息：
  国家重点基础研究发展规划项目 (No.G2000028202,No.G2000028203);国际合作项目 (No.2002DF00051);国家高新技术研究发展计划 (No.2002303261)
- DOI：
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