您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
判断金属/薄层半导体欧姆接触质量的一个新方法
更新时间:2025-12-08
    • 判断金属/薄层半导体欧姆接触质量的一个新方法

    • A New Method for Judging Ohimc Contact Quality of Metal/Thin Semiconductor Layer

    • 华文玉 ,陈存礼
    • 电子学报 1999年第8期

    移动端阅览

  •  
  •  
  • HTML全文

  • 参考文献

  • 出版信息

  • 数据统计

论文导航
icon
试读结束,您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束,您可以通过登录账户,到个人中心,购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员?
去登录 >

17

浏览量

331

下载量

11

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
  • BibTeX下载
  • Endnote下载
  • RefMan 下载
  • NoteExpress下载
  • NoteFirst下载

相关文章

ZnO光电导紫外探测器的制备和特性研究
掺硼金刚石薄膜热敏电阻器性能
包含绕包铝箔屏蔽的数据线缆信号完整性解析方法
基于多维DHS的AFDM卫星通信隐蔽波形
基于非均匀随机相位映射的抗截获通信波形研究

相关作者

叶志镇
张银珠
陈汉鸿
何乐年
邹 璐
黄靖云
吕建国
贾宇明

相关机构

浙江大学硅材料国家重点实验室
浙江大学电机系
浙江大学硅材料国家重点实验室浙江杭州
浙江大学电机系浙江杭州
成都电子科技大学信息材料工程学院!成都