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不同栅压应力下1.8V pMOS热载流子退化机理研究
不同栅压应力下1.8V pMOS热载流子退化机理研究
Investigation on the Hot-Carrier-Induced Degradation for 1.8V pMOS Under Different Gate Voltage Stresses
- 电子学报 2016年44卷第2期 页码:348-352
DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2016.02.015
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