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YON界面钝化层改善HfO2/Ge界面特性的研究
科研通信 | 更新时间：2025-07-16
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    • YON界面钝化层改善HfO2/Ge界面特性的研究

    • Improvement of HfO2/Ge Interface Properties by Using YON Interfacial Passivation Layer

    • 程智翔 ，徐钦 ，刘璐
    • 电子学报 2017年45卷第11期 页码：2810-2814

    • DOI： 10.3969/j.issn.0372-2112.2017.11.031     

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