第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开

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更新时间：2025-12-08

- 第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开
- Acta Electronica Sinica Issue 1, Pages: 83(1983)
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- Published：1983
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[1].第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开[J].电子学报,1983(01):83.

第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开[J]. Acta Electronica Sinica, 1983, (1): 83.
[1].第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开[J].电子学报,1983(01):83. DOI：

第二届全国三束及超精细加工年会在常州召开[J]. Acta Electronica Sinica, 1983, (1): 83. DOI：

<正> 由中国电子学会生产技术学会、半导体与集成技术学会联合召开的第二届全国电子束、离子束、光子束及超精细加工学术年会于1982年10月27日至11月1日在常州举行。来自全国各地95个单位的282名代表参加了这次会议。会上共有174篇论文分别在6个专业组上宣读

另有51篇论文进行书面交流。美国橡树岭国家实验室B.R.Applton博士应邀到会作了半导体离子注入及激光退火的专题报告。

另有51篇论文进行书面交流。美国橡树岭国家实验室B.R.Applton博士应邀到会作了半导体离子注入及激光退火的专题报告。

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