您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
硅基MEMS加工技术及其标准工艺研究
论文 | 更新时间:2025-07-16
硅基MEMS加工技术及其标准工艺研究
Study of Silicon-Based MEMS Technology and Its Standard Process
- 电子学报 2002年30卷第11期 页码:1577-1584
移动端阅览
HTML全文
参考文献
出版信息
数据统计
79
浏览量
3851
下载量
23
CSCD
文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
- BibTeX下载
- Endnote下载
- RefMan 下载
- NoteExpress下载
- NoteFirst下载
相关文章
多晶硅双岛压力传感器应力分布的模拟计算
面向扇出型晶圆级封装的芯片间RDL布线算法
CloAct:基于克隆关系和模体的关键类识别方法
面向工业多时间尺度软测量的时序解耦与度量对齐Transformer模型
一种加载介质钉层的宽角低扫描损耗毫米波双极化相控阵
相关作者
徐静平
黎沛涛
李斌
姚素英
曲宏伟
张维新
毛赣如
李永生
相关机构
华中理工大学固体电子学系
香港大学电机电子工程系,香港 薄扶林道
华中理工大学固体电子学系武汉
香港大学电机电子工程系香港 薄扶林道
天津大学电子与信息工程学院

