1. 北京大学信息科学技术学院微电子学系纳太器件和电路研究室,北京,100871
2. 北京大学深圳研究生院信息工程学院,广东,深圳,518055
纸质出版:2006
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何 进, 牛旭东, 张钢刚, 等. 对表面势为基础的MOSFET片电荷模型的基本检验[J]. 电子学报, 2006,34(11):1986-1989.
HE Jin, NIU Xu-dong, ZHANG Gang-gang, et al. Benchmark Tests on Surface Potential Based Charge-Sheet Models[J]. Acta Electronica Sinica, 2006, 34(11): 1986-1989.
本文完成了对多种表面势为基础的MOSFET片电荷(charge-sheet)模型反型层电荷和沟道电流计算的基本检验.相对于以基本的MOSFET器件物理为基础的Pao-Sah模型结果
大多数片电荷模型在不同的工作区域内都会出现不同程度的反型层电荷计算误差.为了模拟沟道电流
MOSFET片电荷模型必须使用一个半经验的沟道电流方程.这个近似会导致沟道电流方程和反型层电荷方程之间物理上的不自恰
从而使计算的沟道电流结果与Pao-Sah模型相比有近10%的误差.这些基本的检验结果表明:为了保持基本的MOSFET器件物理内容和Pao-Sah模型的高精度
以表面势为基础的片电荷模型还需要一些根本的器件物理改进和进一步的模型精度提高.
This paper presents the benchmark test results on various surface potential based charge-sheet models.Compared with the Pao-Sah model
most charge-sheet models predict the inversion charge with different degree errors in different operation regions.In order to model the MOSFET channel current
a semi-empirical channel current equation has to be used in the present surface potential based charge-sheet models
that lead to device physics inconsistency between the channel current expression and channel charge equation
thus result in some channel current errors.These benchmark test results demonstrated that the charge sheet models require some fundamental improvements to maintain the inherent device physics and high accuracy of the Pao-Sah model.
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