反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法

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科研通信 | 更新时间：2025-07-08

- 反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法
- A Dual-Purpose Method to Enhance Heat Transfer and Prevent Notching Effect in Deep Reactive Ion Etching
- 电子学报 2010年38卷第5期页码：1201-1204
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丁海涛, 杨振川, 闫桂珍. 反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法[J]. 电子学报, 2010,38(5):1201-1204.

A Dual-Purpose Method to Enhance Heat Transfer and Prevent Notching Effect in Deep Reactive Ion Etching[J]. Acta Electronica Sinica, 2010, 38(5): 1201-1204.
丁海涛, 杨振川, 闫桂珍. 反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法[J]. 电子学报, 2010,38(5):1201-1204. DOI：

A Dual-Purpose Method to Enhance Heat Transfer and Prevent Notching Effect in Deep Reactive Ion Etching[J]. Acta Electronica Sinica, 2010, 38(5): 1201-1204. DOI：

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