面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作

张新宇; 易新建; 何苗; 赵兴荣

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面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作

更新时间：2025-12-08

- 面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作
- The Silicon Microlens Arrays Fabricated by Ion Beam Etching for IR CCD FPA Device
- 电子学报 1999年第8期
- 作者机构：
  
  华中理工大学光电子工程系
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家863高科技发展计划资助
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1999
- 稿件说明：
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[1]张新宇,易新建,何苗,赵兴荣.面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作[J].电子学报,1999(08):136-137+126.

Zhang Xinyu, Yi Xinjian, He Miao, et al. The Silicon Microlens Arrays Fabricated by Ion Beam Etching for IR CCD FPA Device[J]. Acta Electronica Sinica, 1999, (8).
[1]张新宇,易新建,何苗,赵兴荣.面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作[J].电子学报,1999(08):136-137+126. DOI：

Zhang Xinyu, Yi Xinjian, He Miao, et al. The Silicon Microlens Arrays Fabricated by Ion Beam Etching for IR CCD FPA Device[J]. Acta Electronica Sinica, 1999, (8). DOI：

摘要

采用氩离子束刻蚀制作与一种１２８×１２８元ＰｔＳｉＩＲＣＣＤ摄像芯片匹配的单片硅折射微透镜阵列．所制成的微小光学阵列元件的填充系数高于９５％，每单元硅折射微透镜为矩底拱面形，其近轴光（３～５μｍ光谱波段）的焦距约为８０μｍ，给出了硅折射微透镜阵列的表面探针和扫描电子显微镜测试结果

Abstract

The Silicon refractive microlens arrays coupled with a large area PtSi IRCCD of 128×128 is fabricated by photolithographys and Ar ion beam etching.The filling factor of the micro optics components fabricated is more than 95%.The focal length of the rectangular arch microlens is about 80μm.The microstructure of the Si microlens arrays is analyzed by the scanning electron microscope and the surface style measurement.

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