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IC表面钝化PECVD工艺的计算机模拟
更新时间:2025-12-08
    • IC表面钝化PECVD工艺的计算机模拟

    • Simulation of IC Surface Passivation PECVD Process

    • 电子学报   1998年第5期 页码:26-29
    • 中图分类号: TN402
    • 纸质出版:1998

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  • [1]徐重阳,丁晖,王,邹雪城,张少强,冯汉华.IC表面钝化PECVD工艺的计算机模拟[J].电子学报,1998(05):26-29+59. DOI:

    徐重阳, 丁晖, 王, et al. Simulation of IC Surface Passivation PECVD Process[J]. Acta Electronica Sinica, 1998, (5): 26-29. DOI:

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中国矿业大学计算机科学与技术学院
中国科学院计算技术研究所智能信息处理重点实验室
  南京师范大学物理系  
  美国北卡罗来纳大学计算机科学系 南京 210024  
  中国科学院半导体研究所  
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