您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术
更新时间:2025-12-08
    • 深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术

    • Deep Submicron Trends and Implications on Electronic Design Automation

    • 电子学报   1996年第11期
    • 中图分类号: TN405.97
    • 纸质出版:1996

    移动端阅览

  • [1]杨华中,汪蕙,刘润生,范崇治.深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术[J].电子学报,1996(11):73-79. DOI:

    杨华中, 汪蕙, 刘润生, et al. Deep Submicron Trends and Implications on Electronic Design Automation[J]. Acta Electronica Sinica, 1996, (11). DOI:

  •  
  •  
icon
试读结束,您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束,您可以通过登录账户,到个人中心,购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员?
去登录 >

0

浏览量

83

下载量

3

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

面向FPGA的布局与布线技术研究综述
复合量子点MOSFET结构存储器的电路模拟
基于时域非线性压缩-扩张的快速小波配置法

相关作者

薛钰
周冲
庞永江
张瑶伟
周婧
王硕
陈雷
马筱婧

相关机构

北京微电子技术研究所
北京大学信息科学技术学院微纳电子学系
南京大学物理系和固体微结构物理国家重点实验室
杭州电子工业学院
杭州电子工业学院杭州
0