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在大注入下多晶硅发射极晶体管特性模拟与理论分析
更新时间:2025-12-08
    • 在大注入下多晶硅发射极晶体管特性模拟与理论分析

    • The Simulation of Device Characteristic and Theoretical Analysis of Polysilicon Emitter Transistors under High-Level Injection

    • 电子学报   1997年第2期
    • 中图分类号: TN32
    • 纸质出版:1997

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  • [1]郑云光,李斌桥,李树荣,郭维廉,高松,张建杰,王阳元,张利春,马平西.在大注入下多晶硅发射极晶体管特性模拟与理论分析[J].电子学报,1997(02):96-99. DOI:

    郑云光, 李斌桥, 李树荣, et al. The Simulation of Device Characteristic and Theoretical Analysis of Polysilicon Emitter Transistors under High-Level Injection[J]. Acta Electronica Sinica, 1997, (2). DOI:

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