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重掺杂硅物理参数的低温特性分析
更新时间:2025-12-08
    • 重掺杂硅物理参数的低温特性分析

    • Analysis of the Low Temperature Characteristics of Physical Parameters in the Heavily Doped Silicon

    • 电子学报   1995年第8期
    • 中图分类号: TN304.12
    • 纸质出版:1995

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  • [1]肖志雄,郑茳,魏同立,王明网,卓伟,吴金.重掺杂硅物理参数的低温特性分析[J].电子学报,1995(08):99-102. DOI:

    肖志雄, 郑茳, 魏同立, et al. Analysis of the Low Temperature Characteristics of Physical Parameters in the Heavily Doped Silicon[J]. Acta Electronica Sinica, 1995, (8). DOI:

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