亚微米电子束曝光机数控电流源系统

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亚微米电子束曝光机数控电流源系统

更新时间：2025-12-08

- 亚微米电子束曝光机数控电流源系统
- Computer-Control Current Source System for Deci-Micrometer Electron Beam Lithography System
- 电子学报 1993年第11期页码：104
- 作者机构：
  
  1.   青岛电业局调度处
  2.   山东工业大学电子束研究室
  3.   山东工业大学电子束研究室青岛 266012
  4.   济南 250014
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1993
- 稿件说明：
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[1]徐群,张玉林,裘培勇.亚微米电子束曝光机数控电流源系统[J].电子学报,1993(11):104.

徐群, 张玉林, 裘培勇. Computer-Control Current Source System for Deci-Micrometer Electron Beam Lithography System[J]. Acta Electronica Sinica, 1993, (11): 104.
[1]徐群,张玉林,裘培勇.亚微米电子束曝光机数控电流源系统[J].电子学报,1993(11):104. DOI：

徐群, 张玉林, 裘培勇. Computer-Control Current Source System for Deci-Micrometer Electron Beam Lithography System[J]. Acta Electronica Sinica, 1993, (11): 104. DOI：

<正> 对于亚微米级的电子束曝光机而言

电子光柱体电流源系统的自动化程度及各路电流源尤其是物镜电源的稳定度

对束斑的影响极大。为突破0.1μm的束斑

特研制了一种电流源系统

集高稳定度、高精度、高抗干扰性、大电流、低噪声、多路输出、计算机控制于一体

它的研制成功为亚微米电子束曝光机的自动化调机奠定了基础

并可推广用于其它需要高稳定度数控电源的领域。系统构成该系统在结构上抛弃了传统的开环控制方式

首次将电压/频率转换器（VFC）用于连续可调的电源。整个电流源系统由23个模块组成

其中20块电源板输出20路独立的电流;一块8255板作为IBM主机

<正> 对于亚微米级的电子束曝光机而言

电子光柱体电流源系统的自动化程度及各路电流源尤其是物镜电源的稳定度

对束斑的影响极大。为突破0.1μm的束斑

特研制了一种电流源系统

集高稳定度、高精度、高抗干扰性、大电流、低噪声、多路输出、计算机控制于一体

它的研制成功为亚微米电子束曝光机的自动化调机奠定了基础

并可推广用于其它需要高稳定度数控电源的领域。系统构成该系统在结构上抛弃了传统的开环控制方式

首次将电压/频率转换器（VFC）用于连续可调的电源。整个电流源系统由23个模块组成

其中20块电源板输出20路独立的电流;一块8255板作为IBM主机

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