1. 清华大学微电子学研究所
2. 清华大学微电子学研究所 北京100084
纸质出版:1992
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[1]钱佩信,侯东彦,林惠旺,徐立.超大规模集成电路快速热处理技术[J].电子学报,1992(11):1-11.
Tsien Pei-Hsin, Hou Dongyan, Lin Huiwang, et al. Rapid Thermal Processina Technoloay for ULSI[J]. Acta Electronica Sinica, 1992, (11): 1-11.
本文介绍了快速热处理技术的研究成果.包括:RHT设备
高剂量注入硅的RTA机理与最佳RTA条件选择
以及浅PN结制造
硅化物形成
BPSG回流和薄氧化层的快速氮化等RTP技术.
The RHT equipment
which was invented for RTP
can be applied to various RTP processes with satisfactory results. The mechanisms and optimal parameters of rapid thermal annealing of high dose implanted silicon
fabrication of shallow PN junctions
formation of silicide
reflow of BPSG and RTN of ultrathin oxide films have been discussed from a comprehensive point of view.
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