真空微电子学的新发展

廖复疆

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真空微电子学的新发展

更新时间：2025-12-08

- 真空微电子学的新发展
- Vacuum Microelectronics
- 电子学报 1991年第3期页码：89-96
- 作者机构：
  
  北京真空电子技术研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1991
- 稿件说明：
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[1]廖复疆.真空微电子学的新发展[J].电子学报,1991(03):89-96.

Liao. Vacuum Microelectronics[J]. Acta Electronica Sinica, 1991, (3): 89-96.
[1]廖复疆.真空微电子学的新发展[J].电子学报,1991(03):89-96. DOI：

Liao. Vacuum Microelectronics[J]. Acta Electronica Sinica, 1991, (3): 89-96. DOI：

摘要

本文描述了正在兴起的一门新学科——真空微电子学——的发展概况

它的工作原理

微型真空三极管的构造及集成加工技术。详细给出了薄膜场致发射阴极的制造过程

讨论了这类器件的应用领域及需进一步研究的问题。

Abstract

This paper describes a new field-vacuum microelectronics or vacuum integrated circuits （VIC）. Its principle

the structure of the field emission microtriodes and microfabri-cation technipues and processing are given in detail. The processing for the thin film field emission cathodes is also reviewed. The application of VIC and the related problems for its future development are discussed.

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