溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系

王曦; 郑耀宗; 阮刚; 王建伟

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系

更新时间：2025-12-08

- 溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系
- Correlation between the Flicker Noise and the Surface Roughness of Sputtered Copper Film
- 电子学报 1990年第6期页码：104-106
- 作者机构：
  
  1. 香港大学电机电子工程系
  2. 复旦大学电子工程系
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1990
- 稿件说明：
移动端阅览
[1]王曦,郑耀宗,阮刚,王建伟.溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系[J].电子学报,1990(06):104-106.

H. Wang and Y. C. Cheng. Correlation between the Flicker Noise and the Surface Roughness of Sputtered Copper Film[J]. Acta Electronica Sinica, 1990, (6): 104-106.
[1]王曦,郑耀宗,阮刚,王建伟.溅射铜膜的闪烁噪声和表面粗糙度的关系[J].电子学报,1990(06):104-106. DOI：

H. Wang and Y. C. Cheng. Correlation between the Flicker Noise and the Surface Roughness of Sputtered Copper Film[J]. Acta Electronica Sinica, 1990, (6): 104-106. DOI：

摘要

本文首次采用了金属膜的表面特征来研究金属膜的闪烁噪声。结果表明在二氧化硅和蓝宝石衬底上溅射的铜膜的表面特征及噪声行为都很不相同。粗糙不规则的表面对金属薄膜的闪烁噪声起重要作用。这种噪声的物理模型与MOS器件闪烁噪声的机构类似。

Abstract

The flicker noise of metal films prepared by sputtering of copper onto the oxidized silicon and sapphire substrates is studied by means of surface characteristics for the first time. The results show that the noise behaviour and the surface physics of the metal films on these two kinds of substrates are different from each other and that the roughness and irregularity of the film surface play an important role in generating the flicker noise of metal film. In addition

the physical model of the noise is similar to the flicker noise mechanism of MOS device.

关键词

Keywords

references

浏览量

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

暂无数据