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正
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在5cm波段GaAs FET研究的基础上
采用氧离子注入代替化学腐蚀台面作隔离
用普通接触式光刻曝光一金属剥离技术制作0.8~1.μ的栅条
并采用深挖槽等方法
我们已试制出3cm的GaAs FET。这种用生陶瓷管壳封装的器件
在10GHz下
噪声系数N
F
=4.7dB、增益G
N
F
=4.7dB
或者N
F
=5.8dB、G
N
F
=7dB。其管芯照片示于下图。
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正
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在5cm波段GaAs FET研究的基础上
采用氧离子注入代替化学腐蚀台面作隔离
用普通接触式光刻曝光一金属剥离技术制作0.8~1.μ的栅条
并采用深挖槽等方法
我们已试制出3cm的GaAs FET。这种用生陶瓷管壳封装的器件
在10GHz下
噪声系数N
F
=4.7dB、增益G
N
F
=4.7dB
或者N
F
=5.8dB、G
N
F
=7dB。其管芯照片示于下图。
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