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基于65 nm CMOS工艺的小型化高增益低噪声放大器设计
学术论文 | 更新时间:2025-12-08
    • 基于65 nm CMOS工艺的小型化高增益低噪声放大器设计

    • Design of Miniaturized High-Gain Low Noise Amplifier Based on 65 nm CMOS Process

    • 电子学报   2023年51卷第3期 页码:593-600
    • DOI:10.12263/DZXB.20211116    

      中图分类号: TN402;TN722.3
    • 收稿:2021-08-18

      修回:2021-11-17

      纸质出版:2023-03-25

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  • 郭庆,陈雨庭,段宗明等.基于65 nm CMOS工艺的小型化高增益低噪声放大器设计[J].电子学报,2023,51(03):593-600. DOI: 10.12263/DZXB.20211116.

    GUO Qing,CHEN Yu-ting,DUAN Zong-ming,et al.Design of Miniaturized High-Gain Low Noise Amplifier Based on 65 nm CMOS Process[J].ACTA ELECTRONICA SINICA,2023,51(03):593-600. DOI: 10.12263/DZXB.20211116.

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