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基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计
学术论文 | 更新时间:2025-12-24
    • 基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计

    • Design of a Millimeter-Wave Dual-Band Low Phase Noise VCO in 45 nm CMOS SOI Process

    • 电子学报   2024年52卷第7期 页码:2161-2169
    • DOI:10.12263/DZXB.20230645    

      中图分类号: TN402;TN722.3
    • 收稿:2023-07-11

      修回:2024-01-18

      纸质出版:2024-07-25

    移动端阅览

  • 陈喆, 王品清, 周培根, 等. 基于45 nm CMOS SOI工艺的毫米波双频段低相噪压控振荡器设计[J]. 电子学报, 2024, 52(07): 2161-2169. DOI:10.12263/DZXB.20230645

    CHEN Zhe, WANG Pin-qing, ZHOU Pei-gen, et al. Design of a Millimeter-Wave Dual-Band Low Phase Noise VCO in 45 nm CMOS SOI Process[J]. Acta Electronica Sinica, 2024, 52(07): 2161-2169. DOI:10.12263/DZXB.20230645

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东南大学毫米波全国重点实验室,江苏南京 2111111
南京理工大学近程高速目标探测技术国防重点学科实验室
  浙江大学  
清华大学电子工程系
清华大学深圳研究生院
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