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基于工艺参数扰动的IC参数成品率多目标优化算法
学术论文 | 更新时间:2025-07-16
    • 基于工艺参数扰动的IC参数成品率多目标优化算法

    • A Multi-objective Optimization Framework for Robust IC Parametric Yield Predication Under Process Variations

    • 电子学报   2016年44卷第12期 页码:2960-2966
    • DOI:10.3969/j.issn.0372-2112.2016.12.021    

      中图分类号: TN47
    • 纸质出版:2016

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  • 李鑫, 孙晋, 肖甫, 等. 基于工艺参数扰动的IC参数成品率多目标优化算法[J]. 电子学报, 2016,44(12):2960-2966. DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2016.12.021.

    LI Xin, SUN Jin, XIAO Fu, et al. A Multi-objective Optimization Framework for Robust IC Parametric Yield Predication Under Process Variations[J]. Acta Electronica Sinica, 2016, 44(12): 2960-2966. DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2016.12.021.

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