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半导体器件内离子有效LET值测量方法研究
科研通信 | 更新时间:2025-07-16
    • 半导体器件内离子有效LET值测量方法研究

    • Study of Measurement of the Ion Effective LET in Semiconductor Devices

    • 电子学报   2018年46卷第10期 页码:2546-2550
    • DOI:10.3969/j.issn.0372-2112.2018.10.032    

      中图分类号: TL84O571.6
    • 网络出版:2018-10-25

      纸质出版:2018

    移动端阅览

  • 史淑廷, 郭刚, 刘建成, 等. 半导体器件内离子有效LET值测量方法研究[J]. 电子学报, 2018,46(10):2546-2550. DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2018.10.032.

    SHI Shu-ting, GUO Gang, LIU Jian-cheng, et al. Study of Measurement of the Ion Effective LET in Semiconductor Devices[J]. Acta Electronica Sinica, 2018, 46(10): 2546-2550. DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2018.10.032.

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