YON界面钝化层改善HfO2/Ge界面特性的研究

程智翔, 徐钦, 刘璐

电子学报 ›› 2017, Vol. 45 ›› Issue (11) : 2810-2814.

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电子学报 ›› 2017, Vol. 45 ›› Issue (11) : 2810-2814. DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2017.11.031
科研通信

YON界面钝化层改善HfO2/Ge界面特性的研究

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Improvement of HfO2/Ge Interface Properties by Using YON Interfacial Passivation Layer

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