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反应离子刻蚀工艺中的充电效应
胡恒升;张 敏
Modeling for Charging Effect during RIE Processing
HU Heng-sheng;ZHANG Min
电子学报 . 2000, (11): 81 -83 . 

创刊日期：1962年创刊（月刊）
主办单位：中国电子学会
ISSN　0372-2112
CN　11-2087/TN
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