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一种利用夹层Ta难熔金属提高NiSi薄膜热稳定性的新方法
黄伟;张树丹;许居衍
A Thin Tantalum Interlayer on the Thermal Stability and Electrical of NiSi Film
HUANG Wei;ZHANG Shu-dan;XU Ju-yan
电子学报 . 2011, (11): 2502 -2506 . 

创刊日期：1962年创刊（月刊）
主办单位：中国电子学会
ISSN　0372-2112
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