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超薄栅氧化层等离子体损伤的工艺监测
赵文彬;李蕾蕾;于宗光
Process Monitor of Plasma Charging Damage in Ultra-Thin Gate Oxide
ZHAO Wen-bin;LI Lei-lei;YU Zong-guang
电子学报 . 2009, (5): 947 -950 . 

创刊日期：1962年创刊（月刊）
主办单位：中国电子学会
ISSN　0372-2112
CN　11-2087/TN
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