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3.4nm超薄SiO2栅介质的特性
许晓燕;谭静荣;高文钰;黄 如;田大宇;张 兴
Electrical Characteristics of 3.4nm Gate Oxide
XU Xiao-yan;TAN Jing-rong;GAO Wen-yu;HUANG Ru;TIAN Da-yu;ZHANG Xing
电子学报 . 2002, (2): 269 -270 . 

创刊日期：1962年创刊（月刊）
主办单位：中国电子学会
ISSN　0372-2112
CN　11-2087/TN
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